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In-Line PECVD system for HIT junctions 用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统  
In-Line PECVD system for HIT junctions 用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统
In-Line PECVD system for HIT junctions 用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)  
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。它可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,这样就要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。因此原子层沉积技术逐渐成为了相关制造领域不可替代的技术。其优势决定了它具有巨大的发展潜力和更加广阔的应用空间。
单腔室和多腔室薄膜沉积设备  
单腔室和多腔室薄膜沉积设备
MVSystems 公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系统。MVSystems具有制造用于各类研发,中试以及小型生产设备的强大能力和丰富经验,所生产的设备已成功地使用在全世界23个国家的大学,研究院所和公司。我们公司的工程部门可最大限度地为用户着想, 以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。